| Es wird eine Positionssensorvorrichtung zum Ermitteln einer Position zumindest eines Spiegels einer Lithographieanlage bereitgestellt. Diese umfasst eine mit dem Spiegel gekoppelte Musterbereitstellungseinrichtung zur Bereitstellung eines Musters, welches einen Informationsgehalt bei Ortsfrequenzen von zumindest 1/(500 µm) aufweist, eine Bilderfassungseinrichtung zur Erfassung des bereitgestellten Musters, welche eine Optik und einen Bildsensoraufweist, wobei die Optikdazu eingerichtet ist, das bereitgestellte Mustermit den Ortsfrequenzen von zumindest 1/(500 µm) im Ortsfrequenzbereich von 0∙1/µm bis 1/(250 µm) mit einer Intensitätsabschwächung von höchstens 99 % auf den Bildsensorabzubilden, und eine Bildauswerteeinrichtung zur Ermittlung der Position des Spiegels in Abhängigkeit von dem erfassten Muster. Durch die Verwendung des Musters mit einem Informationsgehalt bei Ortsfrequenzen von zumindest 1/(500 µm) kann die vorliegende Positionssensorvorrichtung eine hohe Messgenauigkeit bereitstellen. Ferner werden eine Lithographieanlage, welche das Projektionssystem aufweist, sowie ein Verfahren zum Ermitteln einer Position zumindest eines Spiegels einer Lithographieanlage bereitgestellt. |
