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STRUKTURLICHTEMITTIERENDE VORRICHTUNG MIT EINER VIELZAHL VON UNTERSCHIEDLICHEN DARAUF INSTALLIERTEN MUSTERLICHTQUELLEN UND INSPEKTIONSVORRICHTUNG

Patentnummer:EP3531190B1
IPC Hauptklasse:G01B11/25
Anmelder:KOH YOUNG TECH INC (1)
株式会社高迎科技 (1)
Erfinder:CHOI WOO JAE (1)
CHOI WOO-JAE (1)
HUR JUNG (1)
Anmeldung:23.10.17
Patenterteilung:14.09.22
Einspruch bis:14.06.23

Abstract / Hauptanspruch
Disclosed are a pattern light irradiating device and an inspection apparatus using the same. The pattern light irradiating device includes first and second pattern light sources installed on a frame having a plurality of through-holes. Each of the through-holes is formed along a single optical axis. The first pattern light source is configured to irradiate first pattern light having a fixed pitch. The second pattern light source is configured to irradiate second pattern light having a variable pitch.


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