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AUSRICHTVORRICHTUNG FÜR FLANSCHLOSE DURCHFLUSSMESSER

Patentnummer:EP3353506B8
IPC Hauptklasse:G01D5/00
Anmelder:DIETERICH STANDARD INC (1)
ディーテリヒ・スタンダード・インコーポレーテッド (1)
迪特里奇标准公司 (1)
Erfinder:BINGHAM BRYCE ARTHUR (1)
KENYON NATHANIEL KIRK (1)
STEHLE JOHN HENRY (1)
Anmeldung:15.09.16
Patenterteilung:25.05.22
Einspruch bis:25.02.23

Abstract / Hauptanspruch
An alignment device for a wafer in an industrial process assembly includes an inner surface shaped to conform to an outer surface of a wafer, an outer surface comprising at least two cams; and two ends connecting the inner surface to the outer surface. The two ends are positioned such that when the alignment device is positioned on the outer surface of the wafer, the alignment device extends more than one hundred eighty degrees around the wafer.


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