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MARKER SOWIE HALTUNGSSCHÄTZVERFAHREN UNTER VERWENDUNG DES MARKERS

Patentnummer:EP3550259B1
IPC Hauptklasse:G01B11/26
Anmelder:AIST (1)
NATL INST OF ADV IND SCI AND TECH (1)
国立研究开发法人产业技术综合研究所 (1)
国立研究開発法人産業技術総合研究所 (1)
Erfinder:TANAKA Hideyuki (1)
Anmeldung:26.10.17
Patenterteilung:10.11.21
Einspruch bis:10.08.22

Abstract / Hauptanspruch
A marker for achieving more accurate position and posture estimation, and a posture estimation method and a position and posture estimation method using this marker are provided. In order to solve this problem, the present invention provides a marker for estimating the posture of an object, wherein the marker includes standard variable moire patterns VS1 and VS2 for estimating a visual line angle around at least one axis with respect to the object and high-sensitivity variable moire patterns VH1 and VH2 that have a resolution of visual line angle higher than the standard variable moire patterns VS1 and VS2 and that are used to estimate the visual line angle around the axis.


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