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Europäisches Patentamt

CALCULATION OF LAYER THICKNESS | BERECHNUNG DER SCHICHTDICKE | CALCUL D'ÉPAISSEUR DE COUCHE

Patentnummer:EP3280971B1
IPC Hauptklasse:G01B001106
Anmelder:
Erfinder:
Anmeldung:31.07.15
Offenlegung:31.07.15
Patenterteilung:17.06.20

Abstract / Hauptanspruch
Processing circuitry includes circuitry to receive data, where the data is indicative of a measurement of a region of a substrate, the region having a first layer, and a second layer, and the first and second layers are provided one above the other with respect to the substrate. The measurement being indicative of an optical parameter associated with the first layer. The processing circuitry further includes circuitry to calculate a thickness of the second layer based on the received data.

Un ensemble circuit de traitement comprend un ensemble circuit destiné à recevoir des données, les données faisant état d'une mesure d'une région d'un substrat, la région comportant une première couche, et une seconde couche, et les première et seconde couches sont agencées l'une au-dessus de l'autre par rapport au substrat. La mesure fait état d'un paramètre optique associé à la première couche. L'ensemble circuit de traitement comprend en outre un ensemble circuit destiné à calculer une épaisseur de la seconde couche sur la base des données reçues.

EP3280971B1


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