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Europäisches Patentamt

SYSTEM AND METHOD FOR POSITION MEASUREMENT | SYSTEM UND VERFAHREN ZUR POSITIONIERUNGSMESSUNG | SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE MESURE DE POSITIONNEMENT

Patentnummer:EP3418680B1
IPC Hauptklasse:G01B001126
Anmelder:
Erfinder:
Anmeldung:07.06.18
Offenlegung:19.06.17
Patenterteilung:04.03.20

Abstract / Hauptanspruch
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Messsystem 1 das eine Winkelmesseinheit 2 mit wenigstens einem Sensor 3, ein der Winkelmesseinheit 2 gegenüberliegendes reflektierendes Element 4, wenigstens eine seitens der Winkelmesseinheit 2 angeordnete erste Lichtquelle 5 und wenigstens eine seitens des reflektierenden Elements 4 angeordnete zweite Lichtquelle 6, 6' aufweist. Die wenigstens eine erste Lichtquelle 5 ist dazu ausgelegt, Licht über das reflektierende Element 4 auf den wenigstens einen Sensor 3 zu senden. Die wenigstens eine zweite Lichtquelle ist dazu ausgelegt, Licht auf den wenigstens einen Sensor 3 zu senden. Die Winkelmesseinheit 2 ist dazu ausgelegt, wenigstens einen Einfallswinkel β 1 des Lichts jeder ersten Lichtquelle 5 auf den wenigstens einen Sensor 3 und wenigstens einen Einfallswinkel α1, α1' des Lichts jeder zweiten Lichtquelle 6, 6' auf den wenigstens einen Sensor 3 zu bestimmen und Positionierungsinformation des reflektierenden Element 4 aus den bestimmten Einfallswinkeln β1, α1, α1' zu berechnen. Die vorliegende Erfindung betrifft auch ein entsprechendes Messverfahren.

EP3418680B1


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