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Europäisches Patentamt

DETERMINATION OF SUBSTRATE DEFORMATION | ERMITTLUNG VON FORMÄNDERUNGEN EINES SUBSTRATS | DÉTERMINATION DE LA DÉFORMATION D'UN SUBSTRAT

Patentnummer:EP2764327B1
IPC Hauptklasse:G01B001116
Anmelder:Ev Group E. Thallner GmbH (0)
Dl Erich Thallner Straße 1, 4782 St. Florian am Inn, AT
Erfinder:
Anmeldung:14.11.11
Offenlegung:14.11.11
Patenterteilung:18.01.17

Abstract / Hauptanspruch
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Ermittlung von Formänderungen eines Substrats (16) parallel zu dessen Substratoberfläche (16 o) mit folgenden Merkmalen: - mindestens einer Erfassungseinrichtung (2) zur Erfassung von Abbildungen von auf der Substratoberfläche (16o) angeordneten Strukturen (14, 15, 20), - einer aus mindestens zwei Optikeinrichtungen (4, 7, 21) bestehenden Optik mit mindestens zwei unterschiedlichen Strahlengängen (10, 11, 12, 13, 26, 27) zur Abbildung der Strukturen (14, 15, 20) auf der Erfassungseinrichtung, wobei durch die Vorrichtung Abstände (dx1, dy1, dx2, dy2, dxn, dyn) von Abbildungen (14', 15', 20') der Strukturen (14, 15, 20) und/oder Änderungen der Abstände (dx1, dy1, dx2, dy2, dxn, dyn) ermittelbar sind.

The present invention relates to a device and a method for measuring form changes of a substrate (16) parallel to the substrate surface (16 o), having the following features: at least one detection device (2) for detecting images of structures (14, 15, 20) arranged on the substrate surface (16o); an optical system consisting of at least two optical devices (4, 7, 21) and having at least two different beam paths (10, 11, 12, 13, 26, 27) for imaging the structures (14, 15, 20) on the detection unit, distances (dx1, dy1, dx2, dy2, dxn, dyn) of images (14', 15', 20') of the structures (14, 15, 20) and/or changes in the distances (dx1, dy1, dx2, dy2, dxn, dyn) being measurable by the device.

La présente invention concerne un dispositif et un procédé de détermination de modifications de formes sur un substrat (16) parallèlement à la surface (16 o) dudit substrat. Ledit dispositif comporte au moins un système de détection (2) pour acquérir des images de structures (14, 15, 20) disposées sur la surface (16o) du substrat, et un système optique composé d'au moins deux dispositifs optiques (4, 7, 21) présentant au moins deux trajectoires de faisceau (10, 11, 12, 13, 26, 27) différentes pour reproduire les images des structures (14, 15, 20) sur le système de détection. Le dispositif permet de déterminer les distances (dx1, dy1, dx2, dy2, dxn, dyn) entre des images (14', 15', 20') des structures (14, 15, 20) et/ou des modifications des distances (dx1, dy1, dx2, dy2, dxn, dyn).

EP2764327B1


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