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Europäisches Patentamt

Optische Anordnung für strukturierte Beleuchtungsmikroskopie mit Projektionsartefakt-Unterdrückungselement

Patentnummer:DE102014222056B4
IPC Hauptklasse:G01B001125
Anmelder:Mitutoyo Corporation (0)
20-1, Sakado 1-chome, ; Takatsu-ku, ; Kawasaki, Kanagawa 213-0012, JP
Erfinder:
Anmeldung:29.10.14
Offenlegung:15.11.13
Patenterteilung:21.03.19

Abstract / Hauptanspruch
Optische Anordnung (100) für strukturierte Beleuchtungsmikroskopie (SIM), umfassend: einen Projektionsstrahlengang (300), umfassend: einen Lichtgenerator (310), der eine Strahlung (314) emittiert;
ein Mustergenerierungselement, das die Strahlung (314) empfängt, die von dem Lichtgenerator (310) emittiert wird, und das ein strukturiertes Beleuchtungsmuster als Ausgabe generiert; und
einen Satz optischer Projektionselemente zum Leiten des strukturierten. Beleuchtungsmusters, um Ausgangslicht für ein strukturiertes Beleuchtungsmuster bereitzustellen, um ein Blickfeld zu beleuchten, in dem sich ein Werkstück (20) befinden kann, wobei der Satz optischer Projektionselemente eine Ausgabelinse umfasst, die das Ausgangslicht für ein strukturiertes Beleuchtungsmuster an das Blickfeld ausgibt; und
einen Bildgebungsstrahlengang (200), umfassend:
einen Bildgebungssensor, wobei der Bildgebungssensor eine Bildgebungs-Pixelmatrix umfasst; und
einen Satz optischer Bildgebungselemente zum Empfangen von Werkstücklicht mit strukturiertem Beleuchtungsmuster, das sich aus dem Ausgangslicht für ein strukturiertes Beleuchtungsmuster ergibt, das von dem Werkstück (20) reflektiert oder durch dieses hindurch gelassen wurde, und zum Abbilden des Werkstücklichts mit einem strukturierten Beleuchtungsmuster auf dem Bildgebungsstrahlengang (200) zum Bildgebungssensor, wobei der Satz optischer Bildgebungselemente eine Objektivlinse (250) umfasst, die das Werkstücklicht mit strukturiertem Beleuchtungsmuster von dem Werkstück (20) eingibt,
wobei der Satz optischer Projektionselemente ferner ein Element zur Unterdrückung von Projektorartefakten (PASE) umfasst, das sich auf dem Projektionsstrahlengang (300) zwischen dem Mustergenerierungselement (351) und der Ausgabelinse befindet,
wobei das Element zur Unterdrückung von Projektorartefakten (PASE) konfiguriert ist, jeweilige Lichtstrahlen des Ausgangslichts für strukturierte Beleuchtungsmuster zu teilen und dadurch mindestens eine Replikation des strukturierten Beleuchtungsmusters mit einem Versatz quer zum Projektionsstrahlengang (300) bereitzustellen, und
das Element zur Unterdrückung von Projektorartefakten (PASE) konfiguriert ist, um jeweilige Strahlen des Ausgangslichts für strukturierte Beleuchtungsmuster in einen jeweiligen ordentlichen Strahl und einen jeweiligen außerordentlichen Strahl derart zu teilen, dass ein strukturiertes Beleuchtungsmuster eines ordentlichen Strahls auf dem Projektionsstrahlengang (300) weitergeht und mindestens ein strukturiertes Beleuchtungsmuster eines außerordentlichen Strahls die Replikation des strukturierten Beleuchtungsmusters ist, das auf dem Projektionsstrahlengang (300) mit einem Versatz gegenüber dem strukturierten Beleuchtungsmuster eines ordentlichen Strahls quer zum Projektionsstrahlengang (300) weitergeht.

DE102014222056B4


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