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Europäisches Patentamt

Approaches in first order scatterometry overlay based on introduction of auxiliary electromagnetic fields

Patentnummer:US10197389B2
IPC Hauptklasse:G01B001102
Anmelder:KLA-Tencor Corporation (0)
One Technology Drive, Milpitas, CA 95035, US
Erfinder:
Anmeldung:19.10.16
Offenlegung:09.09.15
Patenterteilung:05.02.19

Abstract / Hauptanspruch
Metrology measurement methods and tools are provided, which illuminate a stationary diffractive target by a stationary illumination source, measure a signal composed of a sum of a zeroth order diffraction signal and a first order diffraction signal, repeat the measuring for a plurality of relations between the zeroth and the first diffraction signals, while maintaining the diffractive target and the illumination source stationary, and derive the first order diffraction signal from the measured sums. Illumination may be coherent and measurements may be in the pupil plane, or illumination may be incoherent and measurements may be in the field plane, in either case, partial overlapping of the zeroth and the first diffraction orders are measured. Illumination may be annular and the diffractive target may be a one cell SCOL target with periodic structures having different pitches to separate the overlap regions.

La présente invention concerne des procédés et des outils de mesure de métrologie, qui éclairent une cible diffractive fixe au moyen d'une source d'éclairage fixe, mesurent un signal composé d'une somme d'un signal de diffraction d'ordre zéro et d'un signal de diffraction de premier ordre, répètent la mesure pour une pluralité de relations entre les signaux de diffraction d'ordre zéro et de premier ordre, tout en maintenant fixes la cible diffractive et la source d'éclairage, et dérivent le signal de diffraction de premier ordre à partir des sommes mesurées. L'éclairage peut être cohérent et des mesures peuvent être réalisées dans le plan de pupille, ou l'éclairage peut être incohérent et des mesures peuvent être réalisées dans le plan de champ ; dans un cas comme dans l'autre, un chevauchement partiel des ordres de diffraction d'ordre zéro et de premier ordre est mesuré. L'éclairage peut être annulaire et la cible diffractive peut consister en une cible SCOL unicellulaire à structures périodiques présentant différents pas afin de séparer les régions de chevauchement.

US10197389B2


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