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Europäisches Patentamt

METHOD FOR DETECTING SURFACE DEFECTS ON A SUBSTRATE AND DEVICE USING SAID METHOD | VERFAHREN ZUM NACHWEIS VON OBERFLÄCHENDEFEKTEN AUF EINEM SUBSTRAT UND VORRICHTUNG UNTER VERWENDUNG DES VERFAHRENS | PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS DE SURFACE SUR UN SUBSTRAT ET DISPOSITIF UTILISANT LEDIT PROCÉDÉ

Patentnummer:EP2140252B1
IPC Hauptklasse:G01B001130
Anmelder:
Erfinder:
Anmeldung:27.03.08
Offenlegung:28.03.07
Patenterteilung:21.11.18

Abstract / Hauptanspruch
Method for detecting surface defects on a substrate and device using said method. This invention relates to a method for detecting surface defects, such as ≤slip line≥ type defects, on a substrate (2) designed to be used in electronics, optoelectronics or analogue, remarkable in that it comprises at least the following steps: -projection of a pattern composed of an alternation of light fringes and dark bands onto the substrate (2), so as to generate fringes reflected by the surface of the substrate (2), -relative displacement of the pattern and the substrate (2) along at least one direction, so as to displace the fringes of the pattern on the substrate (2), -acquisition of a sequence of at least three images of the pattern reflected by the substrate (2) by a sensor (8), the images corresponding to displacement of the fringes of the pattern, -determination of the gradient of the surface of the substrate (2) using displacements of fringes of the pattern, and -determination of the presence of a surface defect on the substrate (2) using variations in the gradient of the surface of the substrate (2). Another purpose of the invention relates to a device using said method.

L'invention concerne un procédé de détection de défauts de surface sur un substrat et un dispositif utilisant ledit procédé. Cette invention concerne en outre un procédé de détection de défauts de surface, tels que des défauts du type “ ligne de glissement ”, sur un substrat (2) conçu pour être utilisé en électronique, en optoélectronique ou dans des domaines analogues, caractérisé en ce qu'il comprend au moins les étapes suivantes : - la projection d'un motif composé d'une alternance de franges lumineuses et de bandes sombres sur le substrat (2), de façon à générer des franges reflétées par la surface du substrat (2), - le déplacement relatif du motif et du substrat le long d'au moins une direction, de façon à déplacer les franges du motif sur le substrat (2), - l'acquisition d'une séquence d'au moins trois images du motif reflété par le substrat (2) par un détecteur(8), les images correspondant au déplacement des franges du motif, - la détermination du gradient de la surface du substrat (2) en utilisant les déplacements des franges du motif, et - la détermination de la présence d'un défaut de surface sur le substrat (2). Un autre but de l'invention concerne un dispositif utilisant ledit procédé.

EP2140252B1


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