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Europäisches Patentamt

Verfahren und Vorrichtung zur Positionsbestimmung von Strukturelementen einer photolithographischen Maske

Patentnummer:DE102015213045B4
IPC Hauptklasse:G01B001103
Anmelder:Carl Zeiss AG (0)
73447, Oberkochen, DE
Erfinder:
Anmeldung:13.07.15
Offenlegung:13.07.15
Patenterteilung:24.05.18

Abstract / Hauptanspruch
Verfahren zum Bestimmen einer Position zumindest eines Strukturelements (470) einer photolithographischen Maske (105, 200), das Verfahren die Schritte aufweisend:
a. Bereitstellen eines gemessenen Referenzbildes (570) des zumindest einen Strukturelements (470);
b. Ableiten eines Datensatzes zum gemessenen Referenzbild (570), der Metadaten umfasst, die sich auf das gemessene Referenzbild (570) beziehen;
c. Bereitstellen zumindest eines gemessenen Bildes (810) des zumindest einen Strukturelements (470) der photolithographischen Maske (105, 200); und
d. Optimieren des gemessenen Referenzbildes (570) mittels des abgeleiteten Datensatzes und Korrelieren des zumindest einen gemessenen Bildes (810) und des optimierten gemessenen Referenzbildes (770).

DE102015213045B4


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