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Europäisches Patentamt

Holographic optical element having a plurality of interference patterns | Holographisches optisches Element mit mehreren Interferenzmustern | Elément optique holographique comprenant plusieurs motifs d'interférence

Patentnummer:EP1429112B1
IPC Hauptklasse:G01B001110
Anmelder:ZUMBACH ELECTRONIC AG (0)
Hauptstrasse 93, CH-2552 Orpund, CH
Erfinder:
Anmeldung:21.11.03
Offenlegung:09.12.02
Patenterteilung:21.03.18

Abstract / Hauptanspruch
Bereitgestellt wird ein holographisches optisches Element (10,10',40) für die Messung der Ausdehnung und Lage eines Objektes mit Hilfe eines abgelenkten, einen bestimmten Winkelbereich überstreichenden Laserstrahles (14'), das in einem Abschnitt ein Interferenzmuster aufweist, das durch gleichzeitiges Belichten mit einer fächerförmigen, von einer monochromatischen, kohärenten Laserlichtquelle (1) stammenden Referenzwellenfront (14) und einer parallelen, ebenfalls von dieser Laserlichtquelle stammenden Wellenfront, die in einem anderen Winkel als die Referenzwellenfront (14) auf das Element auftrifft, sowie durch anschließendes Entwickeln erhältlich ist. Das Element besitzt mindestens zwei unterschiedliche Interferenzmuster (25,26,27,43,44,45), wobei bei der Belichtung eine der Zahl der Interferenzmuster entsprechenden Anzahl von parallelen Teil-Wellenfronten (15,16,17) der laserlichtquelle (1) eingesetzt wurden, die sich in der virtuellen Verlängerung durch das Element hindurch nach diesem Element im Zentrum eines Messfeld (18) schneiden. Mit dem Element lassen sich Objekte in mehreren Richtungen vermessen.

Holographic optical unit for measuring dimension and position of object e.g. cable, has interference pattern created through simultaneous exposure of reference and parallel partial wave front for hitting unit at different angle

The unit has two interference patterns, where each pattern is created through simultaneous exposure of a reference (14) and parallel partial wave front (15,16,17), which are generated by a monochromatic and coherent light source for hitting the unit at a different angles. The interference patterns intersect behind the unit in a center of a measuring field (18), if the partial fronts are virtually extended through the unit. The number of the partial wave fronts is used for exposure of the unit corresponding to a number of interference patterns. Independent claims are also included for the following: (a) a measuring arrangement for measuring a dimension and position of an object; (b) a method for measuring a dimension and position of an object; and (c) a device for measuring a dimension and position of an object.

EP1429112B1


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