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Anmelder = Industrial Technology Research Institute, Hsinchu


Erteilte Patente in der Einspruchsfrist

(DE B,C: 3 Monate nach Erteilung; EP B,C: 9 Monate nach Erteilung)

Patentschrift
Erteilung (Frist)
Anmelder
Titel der Erfindung (Arbeitstitel)
US9970880B2
15.05.18 (66)
Apparatus for measuring a curvature of a thin film and the method thereof
Industrial Technology Research Institute, Hsinchu
US9970754B2
15.05.18 (66)
Surface measurement device and method thereof
Industrial Technology Research Institute, Hsinchu
US10041782B2
07.08.18 (147)
Apparatus for measuring length of optical resonant cavity
Industrial Technology Research Institute, Hsinchu
US10094774B2
09.10.18 (210)
Scattering measurement system and method
Industrial Technology Research Institute, Hsinchu
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