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Anmelder = Hitachi High-Technologies Corporation


Erteilte Patente in der Einspruchsfrist

(DE B,C: 3 Monate nach Erteilung; EP B,C: 9 Monate nach Erteilung)

Patentschrift
Erteilung (Frist)
Anmelder
Titel der Erfindung (Arbeitstitel)
US9823065B2
21.11.17 (60)
Surface measurement apparatus
Hitachi High-Technologies Corporation
US9934946B2
03.04.18 (195)
Plasma processing apparatus and operating method of plasma processing apparatus
Hitachi High-Technologies Corporation
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