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Anmelder = Hitachi High-Technologies Corporation


Erteilte Patente in der Einspruchsfrist

(DE B,C: 3 Monate nach Erteilung; EP B,C: 9 Monate nach Erteilung)

Patentschrift
Erteilung (Frist)
Anmelder
Titel der Erfindung (Arbeitstitel)
US9934946B2
03.04.18 (134)
Plasma processing apparatus and operating method of plasma processing apparatus
Hitachi High-Technologies Corporation
EP2998693B1
11.07.18 (232)
SURFACE-GEOMETRY MEASUREMENT METHOD AND DEVICE USED THEREIN | VERFAHREN ZUR MESSUNG EINER OBERFLÄCHENGEOMETRIE UND DARIN VERWENDETES VERFAHREN | PROCÉDÉ DE MESURE DE GÉOMÉTRIE DE SURFACE ET DISPOSITIF UTILISÉ POUR CELUI-CI
Hitachi High-Technologies Corporation
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